Микросхемы нового поколения: ASML готовит литографическую систему Hyper NA
Новая технология Hyper NA позволит печатать элементы размером около 5 нм
Нидерландская ASML совместно с немецким производителем оптики Carl Zeiss приступила к разработке литографической системы нового поколения под названием Hyper NA.
На создание технологии может уйти около десяти лет. Пока проект находится на ранней стадии, и компания не приняла окончательного решения о запуске производства оборудования.